次世代LAUEシステム
高解像度結晶配向システムは、結晶材料からラウエ回折パターンを捕捉し分析するための理想的なツールです。専用ソフトウェアにより、単結晶の方位を素早く高精度に測定することが可能です。
特徴
- 垂直、水平、粒度マップ構成で利用可能
- プラグアンドプレイのコンパクトなキャビネット システム - カスタマイズされたベンチや追加サービスは必要ありません
- 完全に自動化された電動の XYZ ステージとゴニオメーター、手動オプションも利用可能
- CCD背面反射型、高分解能、高感度X線検出器
- 独自の集光光学系により小さなコリメートビームサイズを実現
- オンボードの高解像度観察カメラによる小型結晶の迅速かつ正確な位置合わせ
- 正確かつ再現性のあるサンプルの位置決めのための距離測定ツール
- 完全な制御、データ収集、処理、分析のための専用 Laue ソフトウェア
- ハイスループットのサンプルスクリーニングオプション
垂直構成
最も柔軟な構成である垂直LAUEシステムは、垂直ビーム パスを使用して、孤立した複数の結晶または複数の対象領域を高スループットでスキャンします。重力を利用すると、サンプルをプラットフォームに貼り付ける必要がなくなり、結晶の取り付けと方向付けが容易になります。 <200µm のビーム サイズにより、サブミリメートル範囲のサンプルとタービン合金などの大型コンポーネントの両方に対応します。
水平構成
従来の水平ジオメトリでも使用できます。水平LAUEシステムは、結晶を切断する方向に向けたり、結晶を素早くスキャンして反射を特定したりするのに適しています。
グレインマップ構成
特別なカメラ、レンズ、照明、および各結晶粒の方位を測定するマッピング ソフトウェアを備えた垂直システム。グレイン マップには、完全に電動化された XYZ ステージとゴニオメーターが標準で含まれており、シリコン ウェーハのグレイン マッピングに最適です。
主な仕様
| Large Active Area | 155 mm x 105 mm |
| High Resolution | 2,500 x 1,650 pixels |
| Input Pixel Size | 60 µm x 60 µm |
| Spot Size | Down to 200 µm |
| Energy Range | 5 to 50 keV |
| Source | 50W |
システムオプション
| Manual Option | Manual XYZ Stage and Goniometer |
| Motorized Option | Motorized XYZ Stage and Goniometer |
| No Goniometer Option | Motorized XYZ Stage - NO Goniometer |
| Fine Focus Option | Vertical Configuration only |
| Customized Solution | Fully customizable systems available |
アプリケーション
- 結晶成長
- リアルタイム結晶方位測定
- 結晶の特性評価
- クリスタルカッティング
- 太陽光発電検査
- 多結晶シリコンウェーハの二次元方位マッピング
- 半導体結晶
- ウェーハ検査
LAUE画像アライメントソフトウェア
- 回折スポットを自動的に検出し、基準結晶に対するスポット位置を計算します
- ゴニオメーターおよび結晶軸に対する誤った配向を自動的に計算します (手動によるフィットやパターンの歪みはありません)。
- マルチユーザー操作および結晶学の専門家でないユーザー向けの直感的なワークフロー
- 品質保証のトレーサビリティのために角度測定値を CSV 形式で保存します
- 反復的なルーチンを自動化するための組み込みマクロ インターフェイス
- CFLデータファイルとの互換性
- ダウンタイムを最小限に抑え、継続的なサービスサポートのためのリモートアクセス制御